このページの本文へ

ここから本文

分析評価事業

分析評価事業
分析評価事業 トップページ
装置原理
事例紹介
ご依頼の流れ
お問い合わせ
アンケート回答
img
事例紹介ウェハ関連 事例

事例2 | SR測定による拡散、EPI/SUB評価

拡散層の評価やウェハ仕様(EPI/SUB層)の確認が可能。

目的

ダイオード素子のアノード拡散、及びEPI/SUB層の評価としてSR測定を行う。


SR測定の原理

SR測定の原理
斜研磨したSiウエハにて、深さ方向に2深針をコンタクト
させ、 広がり抵抗を測定する。
得られた広がり抵抗を解析して、ウエハの深さ方向の
比抵抗、 キャリア濃度プロファイルを計算する。
 
 
【得られる情報】
深さ方向キャリア濃度プロファイル
深さ方向比抵抗プロファイル
 ⇒PN接合深さや、N+層とN-層の境界
  の深さ、各層のキャリア濃度などの
  情報が得られる。

測定試料、及び結果(キャリア濃度プロファイル)

【測定試料】
【キャリア濃度及び抵抗率プロファイル】
【測定結果】
 P型拡散  濃度
6.4×1019 atoms/cm3
 深さ
4.5 μm
 N-EPI  低効率
約1.0 Ωcm
 厚さ
20 μm
 N+SUB  比抵抗
約0.01 Ωcm

まとめ

微小チップでも、拡散層やEPI/SUB構造の濃度や深さが確認可能。

Get ADOBE READER
img

ページトップへ戻る