装置５｜フィールドエミッション電子プローブマイクロアナライザ

原理

細く絞った電子線を試料表面に照射することで発生する特性X線の波長を
分光結晶を介して測定することで元素分析を行う。
また、二次電子、反射電子を検出することにより試料表面の形状観察も可能である。

装置概要

分析可能材料

金属、半導体、セラミック、ガラス、電池材料(大気非暴露)

サンプル制限

縦x 横：最大100mm□
厚み：20mm以下
※傾斜・回転不可

特徴

○高エネルギー分解能により、EDSの重複ピークへ対応可能 (SnとSbやBaとTiなど)。
　エネルギー分解能：WDS(10eV程), EDS(130eV程)
○FE電子銃搭載により高空間分解能・大電流条件での分析が可能。
　空間分解能：観察条件 3.0nm(30kV, 10pA), 分析条件 50nm(10kV,100nA)
○複数の分光器により、全元素定性分析が可能(B～U)。
○ステージスキャンにより、広範囲元素マッピングが対応可能(最大90mm□)。
○トランスファーベッセルを用いた大気非暴露分析が可能。
○標準試料を用いた高精度定量分析が可能。
○EDS検出器搭載により、WDSと同時元素マッピングが取得可能。

アプリケーション

像観察：
　二次電子像・反射電子像

EDS・WDS：
　点分析・線分析
　元素マッピング(同時取得可能)
　定量分析(WDS)

分析事例

鉛フリーはんだ、金属間化合物などの組成調査
Liイオン電池のバインダー分布評価
材料の添加微量元素解析

分析の際に必要な情報

サンプル構造・構成元素および着目箇所・元素