装置８ ｜ XRD

原理

面間隔 d の結晶面に波長λの単色X線が､ブラッグの式

nλ=2d sinθ (nは整数)

を満たす角度θで入射させると回折X線が得られる。
入射X線と回折X線は2θの角度をなし、2θを連続的に変化させながらX線を検出することにより、多結晶試料の種々の結晶面から回折X線を得ることができる。
これと標準スペクトル(ASTMカード)との照合により未知試料の同定を行う。

分析可能材料

・粉末や薄膜などの結晶性試料

試料制限

・最大φ24mm､厚さ2mm

分析の際に必要な情報

・試料のサイズ(縦横高さ)
・試料の材質(元素組成)
・試料の構造等(膜厚等)

アプリケーション

・薄膜試料の測定
・微小領域の測定
・LiBのIn-situ測定
・加熱In-situ測定

特徴

・物質･化合物の同定が可能。
・結晶構造解析が可能。

配管内析出物の成分同定